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Laser engraving per stampa litografica
Microla, in collaborazione con il Politecnico di Torino, ha recentemente sviluppato un processo di ablazione laser per creare micro-strutture su un master per imprintingin lega di nichel. I campioni di Ni sono stati introdotti in una camera per processi in condizioni di vuoto estremo (P=1×10-7 Torr). Una buona qualità del processo di lavorazione del master in lega di nichel è stata raggiunta usando come sorgente laser l’MLQ20
Micro-strutture realizzate con il laser
Laser annealing
Microla ha messo a punto insieme al Politecnico due diversi processi di annealing attraverso l’uso del laser. La decomposizione termica di Carburo di silicio ha portato alla formazione di un layer di Grafene. Il processo di annealing è attualmente ottenuto attraverso l’uso di un laser MLQ20 .
Immagine FESEM del campione dopo il processo di annealing.
Nel secondo processo un sistema laser MLQ20 è stato usato per il trattamento di flash annealing di un Magnetic Tunnel Junction (MTJ). Gli MTJ sono formati da un isolante ultra-sottile che funge da barriera tunnel tra due strati metallici ferromagnetici. Nella figura seguente sono mostrati il tipico profilo di riscaldamento termico della giunzione in corrispondenza ed al di sotto del punto di fuoco del laser.
Fit lineare dei parametri di processo in corrispondenza delle due posizioni di lavoro confrontate durante l’annealing.
Laser engraving per master olografici
I processi di ablazione laser vengono utilizzati anche per produrre master olografici.
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